鋁陽極氧化在一定限度內(nèi)，電流密度升高，膜生長速度升高，陽極氧化時間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。

　　在正常的溫度條件下，除特種的工藝配方之外，一般鋁及其合金陽極氧化的電流密度控制在1～1．5A／dm2之間。根據(jù)溶液的溫度、溶液濃度、制件形狀及其他有關(guān)工藝條件進(jìn)行選擇。

　　在可能條件下，適當(dāng)提高電流密度有利于加速膜的生成速度，縮短陽極氧化時間，增加膜層的孔隙率，提高著色效果。

　　化學(xué)氧化氧化膜較薄，厚度約為0.5～4微米,且多孔，質(zhì)軟，具有良好的吸附性，可作為有機涂層的底層，但其耐磨性和抗蝕性能均不如陽極氧化膜。但當(dāng)繼續(xù)升高電流密度時，陽極氧化過程中會加大受到焦耳熱的影響，膜孔內(nèi)熱效應(yīng)加大，局部溫升顯著，從而加快了陽極氧化膜的溶解速度，成膜速度下降，遇到復(fù)雜件還會造成電流分布不均，影響著色效果。在制件表面還可能出現(xiàn)容易擦去的疏松陽極氧化膜、或膜層發(fā)脆、開裂，或出現(xiàn)白色痕跡，嚴(yán)重時還可能引起燒蝕制件。

　　選擇合適的電流密度在一定范圍內(nèi)可加速膜的生長速度，但當(dāng)超過一定值后，成膜速度反而降低。拋光氧化加工和純鋁拋光氧化雖然看起來相似，但本質(zhì)上兩者是不同的，因為在亮度方面，后者要比前者高得多。此外，原材料的組成也不同。至于拋光和氧化，拋光的主要目的是提高產(chǎn)品表面的光滑度和手感。

　　在既無冷卻裝置、又無強烈攪拌的條件下，雖然當(dāng)時溶液的溫度適中，電流密度仍要適當(dāng)控制，以防陽極氧化過程中因升溫過快而出現(xiàn)質(zhì)量問題，嚴(yán)重時還可能引起制件燒蝕。

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